半導體的製程發展中，不斷縮小線寬是製程突破的重要環節；其中，曝光機扮演了極重要的角色。 曝光機內有著龐大精密的光學系統，包括了反射鏡、透鏡、均光系統、成像系統等高品質的光學元件，紫外光光學薄膜技術即應用於此；而上述光學系統的品質優劣，則需要藉由紫外光光譜儀來驗證。而製程後的檢測，例如光阻塗佈後的膜厚檢測，則是光學檢測的應用範疇。